Sumber: Sunday-optics.en.alibaba.com
Dalam beberapa hari terakhir (28 Oktober), Institut Optik dan Mekanika Changchun, Mikroelektronik Shanghai, dan Universitas Tsinghua (Changchun Institute of Optics and Mechanics, Shanghai Microelectronics, and Tsinghua University) melaporkan kabar tentang kemajuan mesin litografi (lithografi). Komponen inti litografi domestik Tiongkok telah mencapai terobosan besar, dan Tiongkok selangkah lebih dekat menuju untuk membangun sendiri mesin litografi.
Masih ingat CEO ASML di Belanda pernah meremehkan Tiongkok dengan mengatakan: "Bahkan jika Tiongkok diberi gambar, Tiongkok tidak akan dapat membuat mesin litografi EUV." Bahkan CEO dan pendiri TSMC Zhang Zhongmou (Morris Chang) Taiwan juga secara terbuka mengatakan mengembangkan sendiri mesin litografi bagi Tiongkok akan sulit. Dia percaya bahwa Tiongkok sulit untuk mematahkan monopoli peralatan ini, dan Tiongkok tidak mungkin untuk membangun rantai industri semikonduktor yang lengkap. Baca:
Bisakah TSMC dan Samsung Terhindar Dari Perangkap "National Defense Production"AS
Tindakan Tiongkok Menanggulangi Serangan AS Dalam Embargo Chip
Tampaknya ucapan yang merendahkan ini tergores di hati orang-orang Tiongkok seperti pisau, memang pada saat itu, Tiongkok masih rendah teknologinya dan tidak dapat menyanggahnya. Namun tekad orang-orang Tiongkok untuk bangkit dalam kesulitan memang tidak bisa diremehkan, seperti apa yang dikatakan pendiri BYD Wang Chuanfu, bahkan peralatan paling canggih pun buatan manusia, bukan buatan dewa. (Wang Chuanfu salah satu orang terkaya di Tiongkok. BYD perusahaan mobil listrik/EV, Mobil, Bus, Sepeda Listrik, Truk, Forklift, Panel Surya, Baterai isi ulang).
Institusi teknologi seperti Chinese Academy of Sciences dan perusahaan teknologi seperti Shanghai Microelectronics tidak memperlambat penelitian dan pengembangan mesin litografi Tiongkok karena peremehan dunia luar, sehingga seolah memberikan tamparan kepada ASML.
Sistem sumber cahaya, sistem lensa objektif, proyek EDA (Exploratory Data Analysis), dan sistem dua tahap adalah empat komponen inti dari mesin litografi.
Analisis Data Eksplorasi, atau EDA, adalah langkah penting dalam setiap proyek Analisis Data atau Ilmu Data adalah proses menyelidiki dataset untuk menemukan pola, dan anomali (outlier), dan membentuk hipotesis berdasarkan pemahaman kita tentang dataset.
Sebelumnya, Tiongkok telah membuat terobosan dalam sistem dua tahap dan sistem sumber cahaya. Sistem perangkat lunak rekayasa EDA yang menentukan pengembangan teknis awal chip logika juga telah diterobos oleh Chip dan Semikonduktor.
Sistem lensa objektif, yang merupakan inti dari mesin litografi, yang menentukan keakuratan proses mekanisme litografi, baru-baru ini berhasil dibuatkan oleh Optoelektronik Changchun (Changchun Sunday Optoelectronics).
Changchun Sunday Optics Co., Ltd, didirikan pada tahun 2010, terletak di basis optik kota Changchun. Dengan cabang di Changchun, Jiangsu, Nanjing, Sunday Optik terutama memproduksi spherical lens. Dan Aspheric lens, prisma, jendela presisi tinggi (high precision window), filter, pelapis (coating), lensa laser, desain optik, dan perakitan optik. Ukuran minimum lensa bisa 0.1mm, dan toleransi prisma bersudut 90 derajat bisa 2. Matrial ukuran 0,1mm: Optical Glass, Germanium, Silicon, CaF2, MgF2, BaF2, ZnSe, ZnS.
Sumber: sunday-optics.com
27 Oktober 2021, Media jaringan Tiongkok melaporkan: Institut Optik dan Mekanik Changchun menerobos komponen kunci mesin litografi "tujuan proyeksi" teknologi kunci manufaktur untuk mencapai lompatan pengembangan teknologi optik ultra-presisi Tiongkok,
Empat proyek inti mesin litografi pada dasarnya telah berhasil diterobos, ini berarti Tiongkok semakin dekat ke hari mereka memiliki mesin litografi canggih sendiri.
Bagaimana lensa objektif proyeksi optik ultra-presisi "pemecah es" dari Changchun Optoelectronics Technology Co., Ltd. memberikan dorongan khusus untuk bisnis mesin litografi Tiongkok dan Bagaimana melihat pencapaiannya?
Pertama-tama, kita harus memahami apa "tujuan proyeksi optik (optical projection objective)" itu? Kontradiksi antara batasan spesifikasi built-in chip berbasis silikon dan peningkatan kinerja di bawah Hukum Moore, dan peningkatan jumlah kristal silikon mengedepankan persyaratan proses yang lebih tinggi untuk peralatan mesin litografi, dan pentingnya lensa dalam menentukan keakuratan proses litografi sudah barang tentu tak perlu dikatakan lagi. (Hukum Moore menyatakan bahwa jumlah transistor pada microchip berlipat ganda setiap dua tahun, meskipun biaya komputer berkurang setengahnya. Pada tahun 1965, Gordon E. Moore, salah satu pendiri Intel, membuat pengamatan ini yang kemudian dikenal sebagai Hukum Moore).
Resolusi litografi menjadi "kelangsungan hidup seleksi alam yang paling cocok" terus meningkat. Struktur tujuan proyeksi juga terus disesuaikan. Setelah periode penyaringan dan evolusi; struktur tujuan proyeksi yang diadopsi oleh mesin litografi optik telah berubah dari resolusi rendah asli era refleksi total, refraksi total, dan mesin litografi optik katadioptrik hidup berdampingan secara bertahap ke era mesin litografi resolusi tinggi dengan struktur refraksi penuh sebagai arus utama, tetapi dibandingkan dengan proyeksi optik refraksi total lensa objektif, lensa objektif struktur bias memiliki kinerja optik yang unggul, alasan mengapa tidak menggantikan struktur bias penuh untuk menjadi arus utama adalah karena penerapan struktur bias pada mesin litografi masih perlu mengatasi banyak masalah teknis praktis.
Meskipun Institut Optik dan Mekanika Changchun tidak menyebutkan apakah "lensa objektif proyeksi optik" adalah jenis katadioptrik atau pembiasan penuh, berdasarkan tingkat teknis saat ini, kemungkinan besar keberhasilan "pemecahan es"(penerobos) oleh mereka adalah lensa optik refraksi objektif proyeksi penuh (full refraction optical projection objective lens).
Saat ini, struktur lensa objektif dari sebagian besar mesin litografi optik mengadopsi lensa proyeksi optik yang diproduksi berdasarkan struktur refraksi penuh, bahkan ASML tidak terkecuali.
Dengan kata lain, "lensa objektif proyeksi optik" "pemecah es" dari Changchun berarti sudah berada di tingkat industri utama di bidang lensa objektif optik.
Setelah dikomersialkan, "lensa proyeksi optik refraksi penuh" yang dikembangkan oleh Changchun Optoelectronics Co., Ltd. kemungkinan besar akan cukup untuk 7-5 nanometer dan idealnya 14-10 nanometer, yang secara efektif mengurangi tekanan produsen semikonduktor domestik Tiongkok pada chip prosess preisis-tinggi (high-precision process chip).
Jika "pemecah es" Optoelektronik Changchun adalah "lensa proyeksi optik reflektif", maka mereka akan langsung memimpin dunia. Ini tidak berlebihan, karena Zeiss Jerman, yang memiliki solusi lensa tertinggi dari mesin litografi, tidak dapat mengatasi masalah teknis dari mesin percobaan "lensa proyeksi optik reflektif".
Tidak perduli apakah itu "lensa proyeksi optik refleksi-refraksi (refraction-reflection optical projection lens)" dengan kinerja yang sangat baik atau biaya yang komprehensif, itu adalah "lensa proyeksi optik refraksi/pembiasan penuh" yang paling dekat dengan perkembangan sebenarnya dari perusahaan semikonduktor.
"Lensa objektif proyeksi optik" "pemecah es" Optoelektronik Changchun akan mempromosikan pengembangan industri pengecoran/pembuatan chip semikonduktor Tiongkok dan mengurangi kebutuhan mendesak produsen semikonduktor domestik untuk membuat chip. Tentu saja, prasyaratnya adalah melengkapi integrasi dan koordinasi teknologi di berbagai bidang untuk perlengkapan mesin litografi.
Sumber: Brookings.edu
Pada 24 Oktober lalu, berita penting datang dari pasar litografi domestik Tiongkok menurut laporan media, Shanghai Microelectronics secara resmi mengkonfirmasi peluncuran generasi baru mesin litografi pengemasan canggih resolusi tinggi pada konferensi peluncuran produk-produk baru.
Menurut seseorang yang mengetahui masalah tersebut mengungkapkan bahwa paten teknologi peralatan litografi yang dikembangkan oleh Shanghai Microelectronics sepenuhnya independen dan terkontrol. Sejumlah pelanggan domestik telah mencapai kesepakatan untuk pembelian.
Perangkat pertama akan dikirimkan dalam tahun ini. Aplikasi utama peralatan litografi resolusi tinggi generasi baru ini terutama akan digunakan di bidang pengemasan dan pengujian rantai industri hilir chip, yang akan sangat meningkatkan pengemasan dan tingkat pengujian domestik dan mempromosikan pengembangan industri pengemasan dan pengujian. Mungkin banyak orang Tiongkok akan merasa sedikit kecewa karena peralatan tersebut tidak dapat digunakan dalam proses front-end pembuatan chip.
Tapi penting untuk mengetahui bahwa bidang pengemasan dan pengujian juga sangat penting, dan ini adalah kelemahan utama industri chip Tiongkok. Ini cukup untuk melihat pentingnya terobosan Shanghai Microelectronics, dan Tiongkok telah menembus monopoli di bidang pengemasan resolusi tinggi dan pengujian litografi. .
Jadi, apakah dengan demkian terobosan peralatan litografi yang digunakan dalam proses pembuatan chip sebelumnya akan jauh?
Meskipun peluncuran peralatan litografi dan pengemasan resolusi tinggi domestik tidak dapat menggoyahkan posisi pasar ASML untuk saat ini, itu cukup untuk mengejutkannya dan dapat membuat kompetitor "berkeringat dingin".
Pasar konsumen semikonduktor terbesar di dunia adalah Tiongkok, ASML berulang kali menyatakan akan meningkatkan kapasitas produksi agar tidak tersingkir dari pasar Tiongkok, diharapkan dapat memproduksi 160 perangkat EUV dalam tiga tahun ini. Karena mesin litografi ASML baru telah diteliti dan dikembangkan, dengan mempopulerkan EUV, mesin ini dapat dikirimkan secara bebas dan segera dalam tiga hingga lima tahun yang akan datang ini.
Namun, begitu ASML mengetahui perkembangan peralatan litografi Tiongkok yang akan melakukan lokalisasi saat ini, itu berarti bahwa tata letak ASML saat ini mungkin akan kehilangan maknanya.
Mereka jelas tidak menyangka kemajuan pasar domestik dalam penelitian dan pengembangan litografi Tiongkok akan begitu cepat, tetapi Akademisi Ni Guangnan (seorang ahli komputer, akademisi dari Chinese Academy of Engineering, peneliti dari Institute of Computing Technology, Chinese Academy of Sciences) telah lama menyarankan bahwa teknologi inti tidak dapat mengandalkan pembelian, tidak dapat ditukar, dan tidak dapat diharapkan, terlepas dari apakah ASML dapat mewujudkan ekspor bebas EUV di masa depan. Tiongkok jangan mengubah arah pengembangan teknologi inti Tiongkok, karena mereka menganggap Tiongkok tidak mungkin hanya menggunakan barang-barang yang dibeli dari pihak lain. Hanya dengan "gandum di tangan (produk berdikari siap ditangan)" barulah Tiongkok dapat sepenuhnya menyingkirkan dilema jeratan dari pihak luar.
Meskipun ada kesenjangan besar antara Tiongkok dan negara asing di bidang mesin litografi, dibandingkan dengan proses pengembangan mesin litografi asing, Tiongkok telah membuat kemajuan yang cukup besar di bidang mesin litografi.
"Lebih banyak orang melakukan hal-hal dengan baik, banyak orang lebih mudah melakukan hal-hal yang baik" ada yang berpendapat demikian, apalagi jika di bawah bimbingan negara yang benar, mitos mesin litografi ASML tidak akan bertahan lama. Orang Tiongkok berharap produsen semikonduktor domestiknya akan menjadi lebih kuat, mewujudkan integrasi dari semua aspek teknologi lebih awal, dan mendapatkan kembali pengembangan semikonduktor. Industrialisasi Tiongkok boleh dikatakan dimulainya relatif terlambat. Namun tampaknya mereka berupaya terus mengejar, tapi masih memiliki kesenjangan tertentu dengan negara-negara maju Barat di banyak bidang mutakhir. Yang paling jelas adalah mesin litografi.
Sebagai peralatan inti dari pembuatan chip secara mandiri, mesin litografi dapat dikatakan sebagai mahkota sejarah industri manusia. Kenyataan, sebagai pemimpin global dalam mesin litografi ASML dari Belanda, juga masih mendapat dukungan dari raksasa seperti TSMC, Intel dan Samsung, barulah dapat selangkah demi selangkah berkembangan hingga seperti sekarang ini.
Dapat dilihat bahwa konten ilmiah dan teknologi serta konsumsi modal dari penelitian dan pengembangan mesin litografi sangat besar. Tiongkok telah berkembang pesat dalam beberapa tahun terakhir. Secara khusus, kecerdasan buatan dan teknologi 5G berada di garis depan dunia. Negara-negara Barat ini begitu cemas melihatnya, sehingga tampaknya mereka tidak punya pilihan, selain mencari cara untuk menjerat dan mengekang perkembangan Tiongkok.
Chip, sebagai komponen elektronik yang sangat diperlukan untuk pengembangan ilmu pengetahuan dan teknologi, telah menjadi bagian penting dari "penjeratann" negara-negara Barat ke Tiongkok. Barat telah memblokir pembuatan mesin litografi Tiongkok, mesin yang diperuntukan membuat chip.
Perusahaan luar biasa seperti Huawei telah menerima dampak yang besar. Mereka tidak memiliki tempat untuk menggunakan kemampuan mereka tanpa melibatkan chip yang sangat baik. Tidak ada negara di dunia yang dapat secara mandiri memproduksi mesin litografi EUV.
Faktanya, di dunia saat ini, tidak ada negara yang dapat secara mandiri memproduksi mesin litografi EUV, apakah di Belanda, Prancis, Jerman, dan AS, sekali pun, karena mesin litografi EUV hampir mencakup keseluruhan IPTEK manusia terbaik di bidang optik, mekanik, instrumen presisi, permesinan, otomatisasi, kimia polimer, dan pengenalan gambar.
Misalnya, hanya raksasa pembuat lensa optik Zeiss Jerman yang dapat memproduksi lensa di dunia. Di balik ini bagi Zeiss ini adalah akumulasi teknologi Zeiss selama 179 tahun. Selain menghabiskan waktu untuk menaklukkan, semuanya ini tidak dapat dibeli dengan uang.
Ada pengamat yang telah menghitung bahwa mesin litografi EUV mengandung setidaknya 100.000 bagian, itu tidak termasuk bagian-bagian yang konvensional.
Jika Tiongkok ingin membangun mesin litografi EUV sendiri, mereka setidaknya harus menembus iptek sumber cahaya, lensa objektif proyeksi optik, korektor laser, dan reticle, tabel eksposur dan komponen inti lainnya.
Pada saat yang sama, harus menguasai seluruh proses pembuatan chip dari pembersihan dan pengeringan, pelapisan primer, pelapisan spin photoresist, pemanggangan lunak, paparan pelurusan, pasca pemanggangan, pengembangan, pemanggangan keras, etsa, dll.
Hal ini belum pernah dilakukan oleh satu negara pun dalam sejarah, tetapi meskipun demikian, para peneliti iptek Tiongkok masih gigih untuk berupaya, dan beberapa terobosan telah dibuat satu demi satu, karena para peneliti iptek Tiongkok percaya pada satu kalimat: "Jika tidak ada orang lain yang tidak bisa melakukan (mewujudkan) bukan berarti mereka juga pasti tidak bisa mewujudkannya, jika orang lain tidak bisa melakukan/mewujudkannya maka bukan berarti mereka juga pasti tidak dapat mewujudkannya."
Tampaknya mendobrak blokade iptek Barat sudah menjadi operasi rutin bagi Tiongkok. Dari teknologi militer untuk teknologi kedirgantaraan, Barat mana yang tidak memblokir Tiongkok selama ini? Namun kenyataan Tiongkok masih bisa menyelesaikan penerbangan luar angkasa berawak, eksplorasi Mars, dan prestasi hebat lainnya.
Saat ini, banyak negara Eropa sedang bekerja keras untuk mempelajari bahasa Mandarin agar dapat memasuki stasiun luar angkasa Tiongkok untuk penelitian ilmiah.
Kapal induk produksi dalam negeri Tiongkok telah terwujud yang ketiga Type 003 dengan bobot muat lebih dari 85.000 ton juga akan selesai tahun ini dan akan masuk dalam jajaran alutsista AL-PLA tahun 2024/25.
Sumber: Media TV dan Tulisan Luar Negeri
https://medium.com/analytics-vidhya/exploratory-data-analysis-eda-data-science-project-829f00c5716f
https://www.sunday-optics.com/
Follow Instagram @kompasianacom juga Tiktok @kompasiana biar nggak ketinggalan event seru komunitas dan tips dapat cuan dari Kompasiana. Baca juga cerita inspiratif langsung dari smartphone kamu dengan bergabung di WhatsApp Channel Kompasiana di SINI
